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技術(shù)文章
高低溫沖擊試驗(yàn)箱的那些個(gè)基本常識(shí)你都學(xué)會(huì)了么
   高低溫沖擊試驗(yàn)箱是一款用來(lái)進(jìn)行各類(lèi)零件測(cè)試的設(shè)備,使用一種設(shè)備對(duì)其多加了解能夠幫助我們更好的使用它。接下來(lái)就由小編來(lái)為您講解一下高低溫沖擊試驗(yàn)箱的常識(shí)。
  1、高低溫沖擊試驗(yàn)箱是檢測(cè)產(chǎn)品品質(zhì)*的儀器高低溫沖擊試驗(yàn)箱又叫冷熱沖擊試驗(yàn)箱,為靜置待測(cè)品提供冷熱交替沖擊方式的環(huán)境模擬測(cè)試。廣泛適用于電子零組件測(cè)試,半導(dǎo)體、電子線路板、金屬化學(xué)、材料等行業(yè)產(chǎn)品測(cè)試。試驗(yàn)箱下部為低溫蓄冷區(qū),上部為高溫蓄熱區(qū),試件(待測(cè)品)放置在試驗(yàn)箱中部,高溫沖擊時(shí)上風(fēng)門(mén)打開(kāi),形成高溫內(nèi)循環(huán);低溫沖擊時(shí)上風(fēng)門(mén)關(guān)閉,下風(fēng)門(mén)打開(kāi),形成低溫內(nèi)循環(huán)。
  高低溫沖擊試驗(yàn)箱的特點(diǎn)是試件(待測(cè)品)靜止不動(dòng),使用戶避免了因時(shí)間移動(dòng)帶來(lái)的諸多不便。
  2、如何正確選擇高低溫沖擊試驗(yàn)箱
  選擇購(gòu)買(mǎi)高低溫沖擊試驗(yàn)箱時(shí),除了自身的要求外,在設(shè)備性能指標(biāo)方面主要看三點(diǎn):
  ,溫濕度偏差。即環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備在穩(wěn)定狀態(tài)下,工作空間各測(cè)量點(diǎn)的實(shí)測(cè)值和實(shí)測(cè)低值與標(biāo)稱值的上下偏差。
  第二,溫濕度波動(dòng)度。即環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備在穩(wěn)定狀態(tài)下,工作空間中心點(diǎn)參數(shù)隨時(shí)間的變化量。
  第三,溫濕度均勻性。即環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備在穩(wěn)定狀態(tài)下,工作空間某一時(shí)刻各測(cè)試點(diǎn)之間的差異。
  3、如何正確使用高低溫沖擊試驗(yàn)箱
  高低溫沖擊試驗(yàn)箱在使用過(guò)程中,常常會(huì)因?yàn)椴僮鞑灰?guī)范等原因,致使設(shè)備負(fù)荷過(guò)重而減少使用壽命或者某些功能閑置浪費(fèi)。那么如何避免這些問(wèn)題呢?
  ,合理選擇試驗(yàn)設(shè)備。這既要根據(jù)試驗(yàn)品的不同情況合理選擇高低溫沖擊試驗(yàn)箱的溫度范圍和有效容積大小。
  溫度范圍在選擇時(shí)候應(yīng)該考慮試驗(yàn)品的常用測(cè)試溫度,極限溫度應(yīng)在常用溫度基礎(chǔ)上留出適當(dāng)?shù)挠嗔浚艚?jīng)常使用極限溫度做長(zhǎng)時(shí)間的試驗(yàn),設(shè)備是吃不消滴。
  考慮設(shè)備容積大小時(shí),試驗(yàn)樣品和試驗(yàn)箱的有效容積之間也要保持一個(gè)合理的比例。對(duì)于發(fā)熱試驗(yàn)樣品的試驗(yàn),其體積應(yīng)不大于試驗(yàn)箱有效容積的十分之一。對(duì)于不發(fā)熱試驗(yàn)樣品其體積應(yīng)不大于試驗(yàn)箱有效容積的三分之一。
  第二,正確操作設(shè)備。在設(shè)備使用時(shí),要對(duì)熟悉所需試驗(yàn)的樣品性能、試驗(yàn)條件、試驗(yàn)程序和試驗(yàn)技術(shù),要對(duì)高低溫沖擊試驗(yàn)箱的構(gòu)造要有所了解,要熟悉控制器的操作及性能,仔細(xì)閱讀使用說(shuō)明書(shū),規(guī)范操作,避免因操作失誤而引起試驗(yàn)設(shè)備的不能正常運(yùn)行從而引起試驗(yàn)樣品的損壞,試驗(yàn)數(shù)據(jù)的不準(zhǔn)確。
  第三,正確放置試驗(yàn)樣品。試驗(yàn)樣品的安放位置,應(yīng)離高低溫沖擊試驗(yàn)箱箱壁10cm以上,對(duì)多個(gè)樣品應(yīng)盡量放在同一平面上。樣品放置應(yīng)不堵塞出風(fēng)口和回風(fēng)口,給溫度傳感器也應(yīng)留出一定距離,這樣可以保證試驗(yàn)溫度的準(zhǔn)確。
  以上就是高低溫沖擊試驗(yàn)箱的常識(shí),希望能夠?qū)δ兴鶐椭?/div>
 
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